내년부터 기업의 영업 비밀을 빼내 국내.외로 유출하는 산업 스파이에 대한 처벌이 대폭 강화된다.
특허청은 지난 28일 첨단기술 유출로 인한 국내 기업의 재산권 피해 등을 막기 위해 산업스파이의 처벌 형량 등을 대폭 강화한 `부정경쟁 방지 및 영업비밀 보호에 관한 법률′ 개정안을 입법예고했다.
이 개정안에 따르면 기업의 영업비밀을 국내외에 유출해 부당이득을 얻었을 경우 이득액의 2배에서 최고 10배까지를 벌금으로 부과한다.
현행 법률은 이득 규모를 고려치 않고 일률적으로 1억원 이하의 벌금을 물려 거액이 오가는 첨단기술 유출 사건에는 실효를 거두지 못하고 있다는 지적을 받아왔다.
처벌 대상도 크게 넓혀 영업비밀 침해 주체를 `전.현직 임직원′에서 `누구든지′로, 비밀 보호대상을 `기술상의 영업비밀′에서 `기업의 영업비밀′로 각각 확대했다.
친고죄 조항도 폐지해 영업비밀 침해자에 대한 고소.고발이 없더라도 이를 처벌할 수 있도록 하고 미수.예비.음모에 대한 처벌 규정을 신설했다.
또 개인과 조직을 동시에 처벌할 수 있는 양벌규정(兩罰規定)도 마련해 조직적인 영업비밀 유출 범죄를 차단하기로 했다.
이밖에 국내외에 널리 인식된 상표 등을 인터넷 도메인네임으로 미리 등록, 금전상 이득만을 취하려는 사이버스쿼팅(Cyber-squatting)을 규제하고 유명 상품의 상표 뿐만 아니라 디자인을 모방하는 일도 처벌키로 했다.
특허청 관계자는 "오는 8-9월 입법예고안에 대한 공청회를 갖고 각계의 의견을 수렴한 뒤 국회의 동의를 거쳐 내년 7월부터 시행할 계획"이라고 말했다.
올 들어 모 기업의 액정화면 관련 LCD기술을 중국으로 빼돌리다 적발된 사례가 있으며 지난해에는 국내 벤처기업이 개발한 차세대 무선통신용 모뎀기술이 중국으로 유출되는 등 해마다 국내 첨단기술이 국내외로 유출되는 사건이 끊이지 않고 있다.